ВОЛОГОЧУТЛИВИЙ ДВОЗАТВОРНИЙ МДН-ТРАНЗИСТОР
Ключові слова:
двохзатворний вологочутливий мдн-транзистор, вологість, пористий окис кремніюАнотація
Розроблено структуру і проведено математичне моделювання двозатворного вологочутливого МДН-транзистора з чутливим шаром з пористого кремнію, на основі якого отримано аналітичну залежність повного опору структури, а також графічні залежності активної, реактивної складових повного опору та ємності структури від зміни вологості навколишнього середовища. В діапазоні відносної вологості від 10 до 90 % ємність структури змінюється від 200 до 700 мкФ.Посилання
1. Равновесные и неравновесные электодные процессы на пористом кремнии / [Е. А. Тутов, М. Н. Павленко, Е. Е. Ту-тов и др.] // Письма в ЖТФ. — 2006. — № 13. — С. 6—11.
2. Мікроелектронні сенсори фізичних величин / [З. Ю. Готра, О. М. Мельник, В. Вуйцік та ін.]. — Львів : Ліга-Прес, 2002. — 422 с.
3. Влияние процессов адсорбции воды на вольт-фарадные характеристики гетероструктур с пористым кремнием // [Е. А. Тутов, М. Н. Павленко, Е. Е. Тутов и др.] // Письма в ЖТФ. — 2003. — № 11. — С. 83—89.
4. Патент України № 40955, кл. G01N 21/53. Гігрометричний сенсор на польовому транзисторі / В. С. Осадчук,
О. В. Осадчук, Л. В. Крилик, А. Ю. Савицький; опубл. 27.04.09, Бюл. № 8.
2. Мікроелектронні сенсори фізичних величин / [З. Ю. Готра, О. М. Мельник, В. Вуйцік та ін.]. — Львів : Ліга-Прес, 2002. — 422 с.
3. Влияние процессов адсорбции воды на вольт-фарадные характеристики гетероструктур с пористым кремнием // [Е. А. Тутов, М. Н. Павленко, Е. Е. Тутов и др.] // Письма в ЖТФ. — 2003. — № 11. — С. 83—89.
4. Патент України № 40955, кл. G01N 21/53. Гігрометричний сенсор на польовому транзисторі / В. С. Осадчук,
О. В. Осадчук, Л. В. Крилик, А. Ю. Савицький; опубл. 27.04.09, Бюл. № 8.
##submission.downloads##
-
PDF
Завантажень: 56
Переглядів анотації: 147
Опубліковано
2010-11-12
Як цитувати
[1]
А. .В. Осадчук і А. Ю. Савицький, «ВОЛОГОЧУТЛИВИЙ ДВОЗАТВОРНИЙ МДН-ТРАНЗИСТОР», Вісник ВПІ, вип. 6, с. 93–96, Листоп. 2010.
Номер
Розділ
Радіоелектроніка та радіоелектронне апаратобудування
Ліцензія
Автори, які публікуються у цьому журналі, згодні з такими умовами:
- Автори зберігають авторське право і надають журналу право першої публікації.
- Автори можуть укладати окремі, додаткові договірні угоди з неексклюзивного поширення опублікованої журналом версії статті (наприклад, розмістити її в інститутському репозиторії або опублікувати її в книзі), з визнанням її первісної публікації в цьому журналі.
- Авторам дозволяється і рекомендується розміщувати їхню роботу в Інтернеті (наприклад, в інституційних сховищах або на їхньому сайті) до і під час процесу подачі, оскільки це сприяє продуктивним обмінам, а також швидшому і ширшому цитуванню опублікованих робіт (див. вплив відкритого доступу).